Status of Cat-CVD (Hot Wire CVD) research in the United States

MAHAN, A. H

In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000Thin solid films 395(1-2):12-16; Jg. 395 (2001) 1-2, S. 12-16

Konferenz - print, 35 ref

Wie komme ich dran?

The status of Cat-CVD (Hot Wire CVD) research in the United States is presented. This paper is divided into two topics. Firstly, the status of Si-based Cat-CVD research is presented. For this topic, a short history of previous research in this field is given. This will serve to illustrate the increasing level of interest in this new and exciting field. This part includes both hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) as well as microcrystalline silicon (μc-Si) based materials. Although a heavy emphasis upon basic research will be shown, device work is also included. The second (very brief) topic includes research outside of Si-based materials.

Titel:	Status of Cat-CVD (Hot Wire CVD) research in the United States
Autor/in / Beteiligte Person:	MAHAN, A. H
Link:	E-Journal im Bestand der UB Hagen? View record from PASCAL Archive
Quelle:	Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000Thin solid films 395(1-2):12-16; Jg. 395 (2001) 1-2, S. 12-16
Veröffentlichung:	Lausanne: Elsevier Science, 2001
Medientyp:	Konferenz
Umfang:	print, 35 ref
ISSN:	0040-6090 (print)
Schlagwort:	Etats Unis USA Crystallography Cristallographie cristallogenèse Electronics Electronique Metallurgy, welding Métallurgie, soudage Condensed state physics Physique de l'état condensé Sciences exactes et technologie Exact sciences and technology Physique Physics Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie Cross-disciplinary physics: materials science; rheology Science des matériaux Materials science Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy Dépôt chimique en phase vapeur (incluant le cvd activé par plasma, mocvd, etc.) Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.) Non métal Nonmetals Article synthèse Reviews Catalyse Catalysis Cellule solaire Solar cells Croissance cristalline en phase vapeur Crystal growth from vapors Dépôt chimique phase vapeur CVD Etat actuel State of the art Estado actual Etat amorphe Amorphous state Fil chaud Hot wire Hilo caliente Matériau amorphe hydrogéné Amorphous hydrogenated material Microcristal Microcrystal Recherche Research Investigación Semiconducteur Semiconductor materials Silicium Silicon Si a-Si:H μc-Si Subject Geographic: Etats Unis USA
Sonstiges:	Nachgewiesen in: PASCAL Archive Sprachen: English Original Material: INIST-CNRS Document Type: Conference Paper File Description: text Language: English Author Affiliations: National Renewable Energy Laboratory, 1617 Cole Boulevard, Golden, CO 80401, United States Rights: Copyright 2002 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS Notes: Physics and materials science

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