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Growth and characterization of Hg1-xCdxTe epilayers from Hg-rich solution using LPE

KUMAR, Shiv ; NAGPAL, Anjana ; et al.
In: Physics of semiconductor devices (Delhi, 11-15 December 2001)SPIE proceedings series; (2002) S. 1108-1110
Konferenz - print, 4 ref 2

Titel:
Growth and characterization of Hg1-xCdxTe epilayers from Hg-rich solution using LPE
Autor/in / Beteiligte Person: KUMAR, Shiv ; NAGPAL, Anjana ; SHARMA, Sanjeev ; CHAVADA, F. R ; GUPTA, S. C
Link:
Quelle: Physics of semiconductor devices (Delhi, 11-15 December 2001)SPIE proceedings series; (2002) S. 1108-1110
Veröffentlichung: Bellingham WA: SPIE, 2002
Medientyp: Konferenz
Umfang: print, 4 ref 2
Schlagwort:
  • Electronics
  • Electronique
  • Optics
  • Optique
  • Physics
  • Physique
  • Telecommunications
  • Télécommunications
  • Sciences exactes et technologie
  • Exact sciences and technology
  • Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie
  • Cross-disciplinary physics: materials science; rheology
  • Science des matériaux
  • Materials science
  • Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie
  • Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy
  • Epitaxie en phase liquide; dépôt en phase liquide (phases fondues, solutions et couches superficielles sur des liquides)
  • Liquid phase epitaxy; deposition from liquid phases (melts, solutions, and surface layers on liquids)
  • 8115L
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: PASCAL Archive
  • Sprachen: English
  • Original Material: INIST-CNRS
  • Document Type: Conference Paper
  • File Description: text
  • Language: English
  • Author Affiliations: Solidstate Physics Laboratory, Lucknow Road, Delhi - 110 054, India
  • Rights: Copyright 2002 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
  • Notes: Physics and materials science

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