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Micromachined SU8 negative resist for MMIC applications on low resistivity CMOS substrates

ELGAID, Khaled ; MCCLOY, David A ; et al.
In: Proceedings of the 28th International Conference on Micro- and Nano-Engineering, September 16-19, 2002, Lugano, SwitzerlandMicroelectronic engineering 67-68:417-421; Jg. 67-68 (2003) S. 417-421
Konferenz - print, 4 ref

Titel:
Micromachined SU8 negative resist for MMIC applications on low resistivity CMOS substrates
Autor/in / Beteiligte Person: ELGAID, Khaled ; MCCLOY, David A ; THAYNE, Iain G
Link:
Quelle: Proceedings of the 28th International Conference on Micro- and Nano-Engineering, September 16-19, 2002, Lugano, SwitzerlandMicroelectronic engineering 67-68:417-421; Jg. 67-68 (2003) S. 417-421
Veröffentlichung: Amsterdam: Elsevier Science, 2003
Medientyp: Konferenz
Umfang: print, 4 ref
ISSN: 0167-9317 (print)
Schlagwort:
  • Electronics
  • Electronique
  • Sciences exactes et technologie
  • Exact sciences and technology
  • Sciences appliquees
  • Applied sciences
  • Electronique des semiconducteurs. Microélectronique. Optoélectronique. Dispositifs à l'état solide
  • Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
  • Circuits intégrés
  • Integrated circuits
  • Conception. Technologies. Analyse fonctionnement. Essais
  • Design. Technologies. Operation analysis. Testing
  • Fabrication microélectronique (technologie des matériaux et des surfaces)
  • Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology)
  • Circuits électriques, optiques et optoélectroniques
  • Electric, optical and optoelectronic circuits
  • Propriétés des circuits
  • Circuit properties
  • Circuits hyperfréquences, circuits intégrés hyperfréquences, lignes de transmission hyperfréquences, circuits à ondes submillimétriques
  • Microwave circuits, microwave integrated circuits, microwave transmission lines, submillimeter wave circuits
  • Circuits optiques et optoélectroniques
  • Optical and optoelectronic circuits
  • Optique intégrée. Fibres et guides d'onde optiques
  • Integrated optics. Optical fibers and wave guides
  • Circuit MMIC
  • MMIC
  • Couche interfaciale
  • Interfacial layer
  • Capa interfacial
  • Diélectrique
  • Dielectric materials
  • Dieléctrico
  • Evaluation performance
  • Performance evaluation
  • Evaluación prestación
  • Fabrication microélectronique
  • Microelectronic fabrication
  • Fabricación microeléctrica
  • Guide onde coplanaire
  • Coplanar waveguides
  • Micromachine
  • Micromáquina
  • Paramètre s
  • s parameter
  • Parámetro s
  • Résist négatif
  • Negative resist
  • Resistencia negativa
  • Technologie MOS complémentaire
  • Complementary MOS technology
  • Tecnología MOS complementario
  • CPW lines on low resistivity silicon
  • Micromachined CPW on Si
  • SU8 Negative resist
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: PASCAL Archive
  • Sprachen: English
  • Original Material: INIST-CNRS
  • Document Type: Conference Paper
  • File Description: text
  • Language: English
  • Author Affiliations: Nanoelectronics Research Centre, Department of Electronics and Electrical Engineering, University of Glasgow, Glasgow G12 8LT, United Kingdom
  • Rights: Copyright 2003 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
  • Notes: Electronics

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