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Si3N4 recubierto con diamante CVD mediante filamento caliente y plasma generado por microondas

Diamond coating on Si3N4 by hot filament and microwave plasma assisted CVD
In: VII Reunion nacional de materiales, 16-18 octubre 2002, MadridBoletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio 43(2):473-476; Jg. 43 (2004) 2, S. 473-476
Konferenz - print, 13 ref

Titel:
Si3N4 recubierto con diamante CVD mediante filamento caliente y plasma generado por microondas
Verantwortlichkeitsangabe: Diamond coating on Si3N4 by hot filament and microwave plasma assisted CVD
Autor/in / Beteiligte Person: TALLAIRE, A ; OLIVEIRA, F. J ; FERNANDES, A. J. S ; COSTA, F. M ; BELMONTE, M ; SILVA, R. F
Link:
Quelle: VII Reunion nacional de materiales, 16-18 octubre 2002, MadridBoletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio 43(2):473-476; Jg. 43 (2004) 2, S. 473-476
Veröffentlichung: Madrid: Sociedad Española de Cerámica y Vidrio, 2004
Medientyp: Konferenz
Umfang: print, 13 ref
ISSN: 0366-3175 (print)
Schlagwort:
  • Chemical industry parachemical industry
  • Industrie chimique et parachimique
  • Sciences exactes et technologie
  • Exact sciences and technology
  • Physique
  • Physics
  • Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie
  • Cross-disciplinary physics: materials science; rheology
  • Science des matériaux
  • Materials science
  • Matériaux particuliers
  • Specific materials
  • Fullerènes et matériaux apparentés; diamants, graphite
  • Fullerenes and related materials; diamonds, graphite
  • Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie
  • Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy
  • Dépôt chimique en phase vapeur (incluant le cvd activé par plasma, mocvd, etc.)
  • Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.)
  • Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.)
  • Non métal
  • Nonmetals
  • Adhérence
  • Adhesion
  • Caractérisation
  • Characterization
  • Caracterización
  • Croissance cristalline en phase vapeur
  • Crystal growth from vapors
  • Diamant
  • Diamonds
  • Diffraction RX
  • XRD
  • Etude expérimentale
  • Experimental study
  • Fil chaud
  • Hot wire
  • Hilo caliente
  • Microscopie force atomique
  • Atomic force microscopy
  • Microscopie électronique balayage
  • Scanning electron microscopy
  • Morphologie
  • Morphology
  • Méthode PECVD
  • PECVD
  • Propriété mécanique
  • Mechanical properties
  • Revêtement
  • Coatings
  • Silicium Nitrure
  • Silicon Nitrides
  • Spectre Raman
  • Raman spectra
  • C
  • N Si
  • Si3N4
  • Substrat Si3N4
  • HFCVD
  • MPCVD
  • diamond
  • silicon nitride
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: PASCAL Archive
  • Sprachen: Spanish; Castilian
  • Original Material: INIST-CNRS
  • Document Type: Conference Paper
  • File Description: text
  • Language: Spanish; Castilian
  • Author Affiliations: Departamento de Engenharia Cerâmica e do Vidro, CICECO, Universidade de Aveiro, 3810-193 Aveiro, Portugal ; Departamento de Física, Universidade de Aveiro, 3810-193 Aveiro, Portugal
  • Rights: Copyright 2005 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
  • Notes: Physics and materials science

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