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Nanoindentation response of high performance fullerene-like CNx

PALACIO, J. F ; BULL, S. J ; et al.
In: Proceedings of the 32nd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, San Diego, California, May 2-6, 2005, Jg. 494 (2006), Heft 1-2, S. 63-68
Konferenz - print, 24 ref

Titel:
Nanoindentation response of high performance fullerene-like CNx
Autor/in / Beteiligte Person: PALACIO, J. F ; BULL, S. J ; NEIDHARDT, J ; HULTMAN, L
Link:
Zeitschrift: Proceedings of the 32nd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, San Diego, California, May 2-6, 2005, Jg. 494 (2006), Heft 1-2, S. 63-68
Quelle: Proceedings of the 32 n d International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, San Diego, California, May 2-6, 2005Thin solid films 494(1-2):63-68; Jg. 494 (2006) 1-2, S. 63-68
Veröffentlichung: Lausanne: Elsevier Science, 2006
Medientyp: Konferenz
Umfang: print, 24 ref
ISSN: 0040-6090 (print)
Schlagwort:
  • Crystallography
  • Cristallographie cristallogenèse
  • Electronics
  • Electronique
  • Metallurgy, welding
  • Métallurgie, soudage
  • Condensed state physics
  • Physique de l'état condensé
  • Sciences exactes et technologie
  • Exact sciences and technology
  • Physique
  • Physics
  • Etat condense: structure, proprietes mecaniques et thermiques
  • Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties
  • Propriétés mécaniques et acoustiques de l'état condensé
  • Mechanical and acoustical properties of condensed matter
  • Propriétés mécaniques des nanostructures et des nanomatériaux
  • Mechanical properties of nanoscale materials
  • Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie
  • Cross-disciplinary physics: materials science; rheology
  • Science des matériaux
  • Materials science
  • Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie
  • Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy
  • Depôt par pulvérisation cathodique
  • Deposition by sputtering
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  • Adhesion
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  • Atomic clusters
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  • Carbon Molecules
  • Carbone nitrure
  • Carbon nitrides
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  • Thin films
  • Dureté
  • Hardness
  • Dépôt pulvérisation
  • Sputter deposition
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  • Microscopie électronique balayage
  • Scanning electron microscopy
  • Module Young
  • Young modulus
  • Méthode phase vapeur
  • Growth from vapor
  • Método fase vapor
  • Nanoindentation
  • Nanoindentacion
  • Préparation
  • Preparation
  • Preparación
  • Revêtement
  • Coatings
  • C N
  • CNx
  • Substrat Cr
  • Substrat Si
  • Substrat Ti
  • Substrat acier
  • Fullerene-like CNx
  • H/E ratio
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: PASCAL Archive
  • Sprachen: English
  • Original Material: INIST-CNRS
  • Document Type: Conference Paper
  • File Description: text
  • Language: English
  • Author Affiliations: Chemical Engineering and Advanced Materials Department, University of Newcastle upon Tyne, United Kingdom ; Thin film Physics Division, Department of Physics, IFM, University of Linkdping, Sweden ; Christian Doppler Laboratory for Advanced Hard Coatings, University of Leoben, Austria
  • Rights: Copyright 2006 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
  • Notes: Physics and materials science ; Physics of condensed state: structure, mechanical and thermal properties

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