sp3's experience using hot filament CVD reactors to grow diamond for an expanding set of applications

HERLINGER, James

In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004Thin solid films 501(1-2):65-69; Jg. 501 (2006) 1-2, S. 65-69

Konferenz - print, 2 ref

Wie komme ich dran?

The present status of sp3 in the area of diamond growth using hot filament CVD is given. After a brief description of the deposition systems being used by sp3 and a discussion of selected applications of sp3's products, the paper focuses on why the hot filament technique was selected as the deposition technique of choice. Topics discussed include ease of scaling, deposition system costs, film growth rate and film uniformity, safety issues, and temperature and process control. Finally, the economics of hot filament reactors compared to other deposition types are discussed.

Titel:	sp3's experience using hot filament CVD reactors to grow diamond for an expanding set of applications
Autor/in / Beteiligte Person:	HERLINGER, James
Link:	E-Journal im Bestand der UB Hagen? View record from PASCAL Archive
Quelle:	Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004Thin solid films 501(1-2):65-69; Jg. 501 (2006) 1-2, S. 65-69
Veröffentlichung:	Lausanne: Elsevier Science, 2006
Medientyp:	Konferenz
Umfang:	print, 2 ref
ISSN:	0040-6090 (print)
Schlagwort:	Crystallography Cristallographie cristallogenèse Electronics Electronique Metallurgy, welding Métallurgie, soudage Condensed state physics Physique de l'état condensé Sciences exactes et technologie Exact sciences and technology Physique Physics Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie Cross-disciplinary physics: materials science; rheology Science des matériaux Materials science Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy Dépôt chimique en phase vapeur (incluant le cvd activé par plasma, mocvd, etc.) Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.) Article synthèse Reviews Croissance cristalline en phase vapeur Crystal growth from vapors Diamant Diamonds Dépôt chimique phase vapeur CVD Fil chaud Hot wire Hilo caliente Film Films Grosseur grain Grain size Taux croissance Growth rate C Deposition uniformity Diamond deposition Hot Filament CVD Safety
Sonstiges:	Nachgewiesen in: PASCAL Archive Sprachen: English Original Material: INIST-CNRS Document Type: Conference Paper File Description: text Language: English Author Affiliations: sp3 Inc, Mountain View, CA, United States Rights: Copyright 2006 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS Notes: Physics and materials science

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