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Effect of H2 dilution on Cat-CVD a-SiC:H films

SWAIN, Bibhu P ; GUNDU RAO, T. K ; et al.
In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004Thin solid films 501(1-2):173-176; Jg. 501 (2006) 1-2, S. 173-176
Konferenz - print, 24 ref

Titel:
Effect of H2 dilution on Cat-CVD a-SiC:H films
Autor/in / Beteiligte Person: SWAIN, Bibhu P ; GUNDU RAO, T. K ; ROY, Mainak ; GUPTA, Jagannath ; DUSANE, R. O
Link:
Quelle: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004Thin solid films 501(1-2):173-176; Jg. 501 (2006) 1-2, S. 173-176
Veröffentlichung: Lausanne: Elsevier Science, 2006
Medientyp: Konferenz
Umfang: print, 24 ref
ISSN: 0040-6090 (print)
Schlagwort:
  • Crystallography
  • Cristallographie cristallogenèse
  • Electronics
  • Electronique
  • Metallurgy, welding
  • Métallurgie, soudage
  • Condensed state physics
  • Physique de l'état condensé
  • Sciences exactes et technologie
  • Exact sciences and technology
  • Physique
  • Physics
  • Etat condense: structure electronique, proprietes electriques, magnetiques et optiques
  • Condensed matter: electronic structure, electrical, magnetic, and optical properties
  • Propriétés optiques, spectroscopie et autres interactions de la matière condensée avec les particules et le rayonnement
  • Optical properties and condensed-matter spectroscopy and other interactions of matter with particles and radiation
  • Photoluminescence
  • Autres matériaux minéraux solides
  • Other solid inorganic materials
  • Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie
  • Cross-disciplinary physics: materials science; rheology
  • Science des matériaux
  • Materials science
  • Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie
  • Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy
  • Dépôt chimique en phase vapeur (incluant le cvd activé par plasma, mocvd, etc.)
  • Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.)
  • Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.)
  • Composé minéral
  • Inorganic compounds
  • Dépôt chimique phase vapeur
  • CVD
  • Etude expérimentale
  • Experimental study
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  • Hot wire
  • Hilo caliente
  • Matériau amorphe hydrogéné
  • Amorphous hydrogenated material
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  • Método fase vapor
  • Préparation
  • Preparation
  • Preparación
  • Silicium carbure
  • Silicon carbides
  • Spectre Raman
  • Raman spectra
  • Transformation phase
  • Phase transformations
  • Substrat Si
  • Substrat verre
  • a-SiC:H
  • FTIR
  • Hydrogen dilution
  • TRPL
  • XPS
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: PASCAL Archive
  • Sprachen: English
  • Original Material: INIST-CNRS
  • Document Type: Conference Paper
  • File Description: text
  • Language: English
  • Author Affiliations: Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology, Bombay, India ; Regional Sophisticated Instrumentation Center, IIT Bombay, India ; Novel Materials and Structural Chemistry Division, Bhaba Atomic Research Center, Trombay, Mumbai, India ; TPPED, Bhaba Atomic Research Center, Trombay, Mumbai, India
  • Rights: Copyright 2006 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
  • Notes: Physics and materials science ; Physics of condensed state: electronic structure, electrical, magnetic and optical properties

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