Microstmcture and visible-photoluminescence of titanium dioxide thin films fabricated by dual cathodic arc and nitrogen plasma deposition

HUANG, A. P ; DI, Z. F ; et al.

In: Proceedings of the Fifth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2005), Qingdao, September 12-16, 2005Surface & coatings technology 201(9-11):4897-4900; Jg. 201 (2007) 9-11, S. 4897-4900

Konferenz - print, 21 ref

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We report the concurrent use of plasma nitridation with cathodic arc deposition to fabricate N-doped TiO2 thin films on Si (100) wafers. The microstructures and optical properties are investigated. Our results reveal that the incorporation of a small amount of nitrogen in TiO2 enhances its visible photoluminescence (PL) significantly giving rise to peaks located at 472, 488, and 548 nm. Our study suggests that plasma nitridation in conjunction with cathodic arc deposition is an effective method to introduce N into TiO2 and to improve the optical properties of the thin films. The effects and underlying mechanism are discussed in details.

Titel:	Microstmcture and visible-photoluminescence of titanium dioxide thin films fabricated by dual cathodic arc and nitrogen plasma deposition
Autor/in / Beteiligte Person:	HUANG, A. P ; DI, Z. F ; CHU, Paul K
Link:	E-Journal im Bestand der UB Hagen? View record from PASCAL Archive
Quelle:	Proceedings of the Fifth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2005), Qingdao, September 12-16, 2005Surface & coatings technology 201(9-11):4897-4900; Jg. 201 (2007) 9-11, S. 4897-4900
Veröffentlichung:	Lausanne: Elsevier, 2007
Medientyp:	Konferenz
Umfang:	print, 21 ref
ISSN:	0257-8972 (print)
Schlagwort:	General chemistry, physical chemistry Chimie générale, chimie physique Metallurgy, welding Métallurgie, soudage Sciences exactes et technologie Exact sciences and technology Physique Physics Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie Cross-disciplinary physics: materials science; rheology Science des matériaux Materials science Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy Arc plasma Plasma arc Arco plasma Azote Nitrogen Couche mince Thin films Microstructure Plasma Titane oxyde Titanium oxides Traitement surface Surface treatments 68.55.Jk; 52.77.Dq; 78.55.-m TiO2; Microstructure; Photoluminescence
Sonstiges:	Nachgewiesen in: PASCAL Archive Sprachen: English Original Material: INIST-CNRS Document Type: Conference Paper File Description: text Language: English Author Affiliations: Department of Physics and Materials Science, City University of Hong Kong, Tat Chee Avenue, Kowloon, Hong-Kong Rights: Copyright 2007 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS Notes: Physics and materials science

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