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An η3-allylic complex of ruthenium(II) is used as a precursor for the chemical vapor deposition (CVD) of Ru and RuO2 thin films at low temperatures. The depositions are carried out on α-Al2O3 and surface-oxidized Si(100) in N2, N2 + H2, N2 + O2, or O2 flow to tailor the film composition from pure metal Ru to RuO2. The microstructure features of the samples are analyzed by X-ray diffraction and Raman spectroscopy, whereas their surface composition is studied by X-ray photoelectron spectroscopy. Surface and in-depth analyses of the coatings are also performed by secondary ion mass spectrometry, which allows to distinguish the composition of different coating regions along their thickness. The surface morphology and its dependence on the synthesis conditions are investigated by atomic force microscopy. The electrical and optical studies confirm the metallic character of Ru and RuO2 films.

Titel:	A Ru(II) η3-allylic complex as a novel precursor for the CVD of Ru- and RuO2-nanostructured thin films
Autor/in / Beteiligte Person:	BARRECA, D ; BUCHBERGER, A ; DAOLIO, S ; DEPERO, L. E ; FABRIZIO, M ; MORANDINI, F ; RIZZI, G. A ; SANGALETTI, L ; TONDELLO, E
Link:	E-Journal im Bestand der UB Hagen? View record from PASCAL Archive
Zeitschrift:	Langmuir, Jg. 15 (1999), Heft 13, S. 4537-4543
Veröffentlichung:	Washington, DC: American Chemical Society, 1999
Medientyp:	academicJournal
Umfang:	print, 58 ref
ISSN:	0743-7463 (print)
Schlagwort:	Biochemistry, molecular biology, biophysics Biochimie, biologie moléculaire, biophysique General chemistry, physical chemistry Chimie générale, chimie physique Nanotechnologies, nanostructures, nanoobjects Nanotechnologies, nanostructures, nanoobjets Polymers, paint and wood industries Polymères, industries des peintures et bois Sciences exactes et technologie Exact sciences and technology Physique Physics Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie Cross-disciplinary physics: materials science; rheology Science des matériaux Materials science Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy Dépôt chimique en phase vapeur (incluant le cvd activé par plasma, mocvd, etc.) Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Sciences appliquees Applied sciences Metaux. Metallurgie Metals. Metallurgy Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.) Composé minéral Inorganic compounds Métal transition complexe Transition element complexes Métal transition composé Transition element compounds Métal transition Transition elements Atmosphère contrôlée Controlled atmospheres Caractérisation Characterization Caracterización Composé cyclique insaturé Unsaturated cyclic compound Compuesto cíclico insaturado Composé hapto Hapto compound Compuesto hapto Conductivité électrique Electrical conductivity Coordinat organique Organic ligand Ligando orgánico Couche mince Thin films Croissance cristalline en phase vapeur Crystal growth from vapors Dépôt chimique phase vapeur CVD Etude expérimentale Experimental study Mode opératoire Operating mode Método operatorio Verfahrensausfuehrung Nanostructure Nanostructures Précurseur Precursor Ruthénium Composé organique Ruthenium Organic compounds Ruthénium II Complexe Ruthenium II Complexes Rutenio II Complejo Ruthénium oxyde Ruthenium oxides Ruthénium Ruthenium Spectre absorption Absorption spectra Cycloocta-1,5-diène O Ru Ru RuO2 Ruthénium(η3-allyl) complexe
Sonstiges:	Nachgewiesen in: PASCAL Archive Sprachen: English Original Material: INIST-CNRS Document Type: Article File Description: text Language: English Author Affiliations: CSSRCC-CNR, Dipart. CIMA, Università di Padova, Via Marzolo 1, 35131 Padova, Italy ; INFM and Dipart. di Chimica e Fisica per l'Ingegneria e per i Materiali, Università di Brescia, Via Branze 38, 25123 Brescia, Italy ; IPELP CNR, Corso Stati Uniti 4, 35020 Padova, Italy Rights: Copyright 1999 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS Notes: Metals. Metallurgy ; Physics and materials science

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A Ru(II) η3-allylic complex as a novel precursor for the CVD of Ru- and RuO2-nanostructured thin films