E-beam lithography and electrodeposition fabrication of thick nanostructured devices

LO, T. N ; CHEN, Y. T ; et al.

In: Journal of physics. D, Applied physics (Print), Jg. 40 (2007), Heft 10, S. 3172-3176

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A nanofabrication approach based on advanced e-beam lithography and electrodeposition successfully produced high-resolution (≈40 nm line width) metal structures with high aspect ratio (> 12) and high density. The combination of these characteristics is essential for hard-x-ray optical components such as zone plates, for x-ray lithography masks and for other devices.

Titel:	E-beam lithography and electrodeposition fabrication of thick nanostructured devices
Autor/in / Beteiligte Person:	LO, T. N ; CHEN, Y. T ; CHIANG, C. C ; JE, J. H ; MARGARITONDO, G ; CHIU, C. W ; LIU, C. J ; WUL, S. R ; LIN, I. K ; SUL, C. I ; CHANG, W. D ; HWU, Y ; SHEW, B. Y
Link:	Full Text Finder (Volltext) E-Journal im Bestand der UB Hagen? View record from PASCAL Archive
Zeitschrift:	Journal of physics. D, Applied physics (Print), Jg. 40 (2007), Heft 10, S. 3172-3176
Veröffentlichung:	Bristol: Institute of Physics, 2007
Medientyp:	academicJournal
Umfang:	print, 22 ref
ISSN:	0022-3727 (print)
Schlagwort:	Condensed state physics Physique de l'état condensé Physics Physique Plasma physics Physique des plasmas Sciences exactes et technologie Exact sciences and technology Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie Cross-disciplinary physics: materials science; rheology Science des matériaux Materials science Nanomatériaux et nanostructures : fabrication et caractèrisation Nanoscale materials and structures: fabrication and characterization Divers Other topics in nanoscale materials and structures Traitements de surface Surface treatments Dépôt électrolytique Electrodeposition Largeur raie Line widths Lithographie faisceau électron Electron beam lithography Microscopie électronique balayage Scanning electron microscopy Nanostructure Nanostructures Nanotechnologie Nanotechnology Rayon X dur Hard x radiation Nanostructuration Nanopatterning Time: 8107 8165
Sonstiges:	Nachgewiesen in: PASCAL Archive Sprachen: English Original Material: INIST-CNRS Document Type: Article File Description: text Language: English Author Affiliations: Institute of Physics, Academia Sinica, Taipei 115, Tawain, Province of China ; Department of Materials Engineering, Tatung University, Taipei 104, Tawain, Province of China ; National Synchrotron Radiation Research Center, Hsinchu 300, Tawain, Province of China ; X-ray Imaging Center, Pohang University of Science and Technology, Pohang, Korea, Republic of ; Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL), 1015 Lausanne, Switzerland ; Institute of Optoelectronic Sciences, National Taiwan Ocean University, Keelung 202, Tawain, Province of China ; Departemet of Engineering Science and System, National Tsing Hua University, Hsinchu, Tawain, Province of China Rights: Copyright 2007 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS Notes: Physics and materials science

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