Einzeltreffer — DigiBib

Copyright (c) 1996 Elsevier Science B.V. All rights reserved. Four metallization systems, WTi/Au, Ti/Pt/Au, Mo/Au and Nb/Au, have been examined for thermal reliability, solderability, wire bonding and adhesion on chemically vapor deposited diamond (CVDD). Thermal stability up to 600 °C was determined by conductivity measurements and X-ray photoelectron spectroscopy depth profiles. WTi/Au was found to be the most thermally stable, exhibiting constant resistivity and little interdiffusion after 4 h at 500 °C. Nb/Au was stable to approximately 450 °C, where marked diffusion of Nb into the gold caused a rapid rise in resistivity and loss of adhesion. Ti/Pt/Au exhibited slow diffusion of Pt into the Au and a modest rise in resistivity as low as 350 °C. Only Mo/Au showed significant interdiffusion between the Mo bond coat and CVDD at such low temperatures. This interdiffusion was markedly enhanced by the presence of oxygen. Each of the four metallization systems initially demonstrated excellent adhesion to CVDD, although all eventually lost adhesion due to conversion of the transition metal carbide bond layer to an oxide.

Titel:	Thermal stability of metallized CVD diamond
Autor/in / Beteiligte Person:	IACOVANGELO, C. D
Link:	E-Journal im Bestand der UB Hagen? View record from PASCAL Archive
Zeitschrift:	Thin solid films, Jg. 286 (1996), Heft 1-2, S. 264-269
Veröffentlichung:	Lausanne: Elsevier Science, 1996
Medientyp:	academicJournal
Umfang:	print,
ISSN:	0040-6090 (print)
Schlagwort:	Crystallography Cristallographie cristallogenèse Electronics Electronique Metallurgy, welding Métallurgie, soudage Condensed state physics Physique de l'état condensé Sciences exactes et technologie Exact sciences and technology Sciences appliquees Applied sciences Metaux. Metallurgie Metals. Metallurgy Transformation de matériaux métalliques Production techniques Traitements de surface Surface treatment Dépôt de métaux et d'alliages Metallic coatings Adhérence Adhesion Adherencia Adhaesion Conductivité électrique Electrical conductivity Conductividad eléctrica Elektrische Leitfaehigkeit Couche mince Thin film Capa fina Duennschicht Diamant Diamond Diamante Dépôt chimique phase vapeur Chemical vapor deposition Depósito químico fase vapor Chemisches Aufdampfen Métallisation Metallizing Metalización Niobium Niobio Niob Or Gold Oro Platine Platinum Platino Platin Stabilité thermique Thermal stability Estabilidad térmica Thermische Stabilitaet Titane Titanium Titanio Titan Tungstène Tungsten Wolframio Wolfram
Sonstiges:	Nachgewiesen in: PASCAL Archive Sprachen: English Original Material: ELSEVIER ; INIST-CNRS Document Type: Article File Description: text Language: English Author Affiliations: Chemical Process Technology Laboratory, GE Corporate Research and Development Center, Schenectady, NY 12301, United States Rights: Copyright 1997 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS Notes: Metals. Metallurgy

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Thermal stability of metallized CVD diamond