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Characterisation of thin SiOx-layers on float glass deposited by Combustion Chemical Vapour Deposition (C-CVD)

RÜFFER, Paul ; HEFT, Andreas ; et al.
In: Surface & coatings technology, Jg. 232 (2013), S. 582-586
academicJournal - print, 13 ref

Titel:
Characterisation of thin SiOx-layers on float glass deposited by Combustion Chemical Vapour Deposition (C-CVD)
Autor/in / Beteiligte Person: RÜFFER, Paul ; HEFT, Andreas ; LINKE, Ralf ; STRUPPERT, Thomas ; GRÜNLER, Bernd
Link:
Zeitschrift: Surface & coatings technology, Jg. 232 (2013), S. 582-586
Veröffentlichung: Amsterdam: Elsevier, 2013
Medientyp: academicJournal
Umfang: print, 13 ref
ISSN: 0257-8972 (print)
Schlagwort:
  • General chemistry, physical chemistry
  • Chimie générale, chimie physique
  • Metallurgy, welding
  • Métallurgie, soudage
  • Sciences exactes et technologie
  • Exact sciences and technology
  • Physique
  • Physics
  • Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie
  • Cross-disciplinary physics: materials science; rheology
  • Science des matériaux
  • Materials science
  • Traitements de surface
  • Surface treatments
  • Sciences appliquees
  • Applied sciences
  • Metaux. Metallurgie
  • Metals. Metallurgy
  • Corrosion
  • Action des agents de corrosion
  • Corrosion environments
  • Combustion
  • Dépôt chimique phase vapeur
  • CVD
  • Dépôt chimique
  • Chemical deposition
  • Depósito químico
  • Stromloses Beschichten
  • Hydrométallurgie
  • Hydrometallurgy
  • Lixiviation
  • Lixiviación
  • Auslaugen
  • Passivation
  • Traitement surface
  • C-CVD
  • Float glass
  • Leaching-test
  • SiOx-layer
  • Surface passivation
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: PASCAL Archive
  • Sprachen: English
  • Original Material: INIST-CNRS
  • Document Type: Article
  • File Description: text
  • Language: English
  • Author Affiliations: INNOVENT e.V., Department of Surface Engineering, Prüssingstr. 27B, 07745 Jena, Germany
  • Rights: Copyright 2014 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
  • Notes: Metals. Metallurgy ; Physics and materials science

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