Einzeltreffer — DigiBib

A radio frequency hollow cathode plasma jet (RPJ or RHCPJ) with a tubular Ti nozzle as a source of metal particles was used for the reactive deposition of TiN. The results of optical emission spectroscopy (OES), temperature measurements at the active zone of the hollow cathode and electrical characteristics are correlated with TiN deposition rate and with the parameters of films. The abrupt increase of the temperature at the target after admission of definite low content of nitrogen is associated with the transition of the system into an arc regime (RPJ Arc) which is responsible for the enhanced production of metal particles and the enhanced ionization in the discharge. This enhancement leads to the dramatic (20-30 x ) enhancement of the TiN growth rate compared with Ti films. The transition to RPJ-Arc is reflected by non-continuous change both of the film texture and of the film composition.

Titel:	Titanium nitride deposited by high rate rf hollow cathode plasma jet reactive process
Autor/in / Beteiligte Person:	BARANKOVA, H ; BARDOS, L ; BERG, S
Link:	E-Journal im Bestand der UB Hagen? View record from PASCAL Archive
Zeitschrift:	Vacuum, Jg. 46 (1995), Heft 12, S. 1433-1438
Veröffentlichung:	Oxford: Elsevier, 1995
Medientyp:	academicJournal
Umfang:	print, 19 ref
ISSN:	0042-207X (print)
Schlagwort:	Metallurgy, welding Métallurgie, soudage Physics Physique Sciences exactes et technologie Exact sciences and technology Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie Cross-disciplinary physics: materials science; rheology Science des matériaux Materials science Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy Dépôt assisté par faisceaux électroniques et ioniques; placage ionique Ion and electron beam-assisted deposition; ion plating Composé minéral Inorganic compounds Métal transition composé Transition element compounds Caractérisation Characterization Caracterización Cathode creuse Hollow cathodes Cinétique Kinetics Composé binaire Binary compounds Couche mince Thin films Croissance cristalline en phase vapeur Crystal growth from vapors Etude expérimentale Experimental study Jet plasma Plasma jets Mode opératoire Operating mode Método operatorio Système RF RF systems Titane nitrure Titanium nitrides N Ti TiN
Sonstiges:	Nachgewiesen in: PASCAL Archive Sprachen: English Original Material: INIST-CNRS Document Type: Article File Description: text Language: English Author Affiliations: Uppsala univ., Ångström consortium thin film processing, 751 21 Uppsala, Sweden Rights: Copyright 1995 INIST-CNRS ; CC BY 4.0 ; Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS Notes: Physics and materials science

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Titanium nitride deposited by high rate rf hollow cathode plasma jet reactive process