衬底温度对反应磁控溅射W掺杂ZnO薄膜的微观结构及光电性能的影响

张翅陈新亮王斐闫聪博黄茜赵颖张晓丹耿新华

In: 物理学报 / Acta Physica Sinica, Jg. 61 (2012), Heft 23, S. 498

academicJournal

Titel:	衬底温度对反应磁控溅射W掺杂ZnO薄膜的微观结构及光电性能的影响
Autor/in / Beteiligte Person:	张翅陈新亮王斐闫聪博黄茜赵颖张晓丹耿新华
Link:	http://lib.cqvip.com/qk/94684X/201223/44079800.html
Zeitschrift:	物理学报 / Acta Physica Sinica, Jg. 61 (2012), Heft 23, S. 498
Veröffentlichung:	2012
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	1000-3290 (print)
Sonstiges:	Nachgewiesen in: China Science & Technology Journal Database Alternate Title: Temperature-dependant growth and properties of W-doped ZnO thin films deposited by reactive magnetron sputtering

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