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Parameter identification for model-based advanced process control of diffusion furnaces

Hui, K. ; Lu, C.S.
In: Semiconductor Manufacturing Technology Workshop; (2002) S. 136-139
Konferenz

Titel:
Parameter identification for model-based advanced process control of diffusion furnaces
Autor/in / Beteiligte Person: Hui, K. ; Lu, C.S.
Quelle: Semiconductor Manufacturing Technology Workshop; (2002) S. 136-139
Veröffentlichung: 2002
Medientyp: Konferenz
ISBN: 0-7803-7604-8 (print) ; 978-0-7803-7604-5 (print)
DOI: 10.1109/SMTW.2002.1197393
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: IEEE Xplore Digital Library
  • Relation: 2002 Semiconductor Manufacturing Technology Workshop

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