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Hot-wire CVD grown microcrystalline silicon films with and without initial growing layer modification by inductive coupled plasma

Kim, D.Y. ; Moon, S.I. ; et al.
In: 30th International Conference on Plasma Science; (2003) S. 229-229
Konferenz

Titel:
Hot-wire CVD grown microcrystalline silicon films with and without initial growing layer modification by inductive coupled plasma
Autor/in / Beteiligte Person: Kim, D.Y. ; Moon, S.I. ; Seo, C.K. ; Yi, J.S.
Quelle: 30th International Conference on Plasma Science; (2003) S. 229-229
Veröffentlichung: 2003
Medientyp: Konferenz
ISBN: 0-7803-7911-X (print) ; 978-0-7803-7911-4 (print)
ISSN: 0730-9244 (print)
DOI: 10.1109/PLASMA.2003.1228734
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: IEEE Xplore Digital Library
  • Relation: 30th International Conference on Plasma Science

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