Manufacturable and reliable spin-on-glass planarization process for 1 mu m CMOS double layer metal technology

Morimoto, S. ; Grant, S.Q.

In: 1988. Proceedings., Fifth International IEEE VLSI Multilevel Interconnection Conference, 1988, S. 411-418

Konferenz

Titel:	Manufacturable and reliable spin-on-glass planarization process for 1 mu m CMOS double layer metal technology
Autor/in / Beteiligte Person:	Morimoto, S. ; Grant, S.Q.
Zeitschrift:	1988. Proceedings., Fifth International IEEE VLSI Multilevel Interconnection Conference, 1988, S. 411-418
Quelle:	Fifth International IEEE VLSI Multilevel Interconnection Conference; (1988) S. 411-418
Veröffentlichung:	1988
Medientyp:	Konferenz
DOI:	10.1109/VMIC.1988.14220
Sonstiges:	Nachgewiesen in: IEEE Xplore Digital Library Relation: 1988 Fifth International IEEE VLSI Multilevel Interconnection Conference

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