Low-temperature Ge and GeSn Chemical Vapor Deposition using Ge2H6
In: Thin Solid Films, Jg. 520 (2012-02-01), Heft 8, S. 3211-3215
academicJournal
Zugriff:
Titel: |
Low-temperature Ge and GeSn Chemical Vapor Deposition using Ge2H6
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Autor/in / Beteiligte Person: | Gencarelli, F. ; Vincent, B. ; Souriau, L. ; Richard, O. ; Vandervorst, W. ; Loo, R. ; Caymax, M. ; Heyns, M. |
Link: | |
Zeitschrift: | Thin Solid Films, Jg. 520 (2012-02-01), Heft 8, S. 3211-3215 |
Veröffentlichung: | 2012 |
Medientyp: | academicJournal |
ISSN: | 0040-6090 (electronic) |
DOI: | 10.1016/j.tsf.2011.10.119 |
Sonstiges: |
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