Zum Hauptinhalt springen

High quality low thermal budget low cost SiO2 film fabricated by O2 plasma immersion ion implantation

Qin, Shu
In: Thin Solid Films, Jg. 756 (2022-08-31)
academicJournal

Titel:
High quality low thermal budget low cost SiO2 film fabricated by O2 plasma immersion ion implantation
Autor/in / Beteiligte Person: Qin, Shu
Link:
Zeitschrift: Thin Solid Films, Jg. 756 (2022-08-31)
Veröffentlichung: 2022
Medientyp: academicJournal
ISSN: 0040-6090 (electronic)
DOI: 10.1016/j.tsf.2022.139385
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: ScienceDirect
  • Sprachen: English

Klicken Sie ein Format an und speichern Sie dann die Daten oder geben Sie eine Empfänger-Adresse ein und lassen Sie sich per Email zusenden.

oder
oder

Wählen Sie das für Sie passende Zitationsformat und kopieren Sie es dann in die Zwischenablage, lassen es sich per Mail zusenden oder speichern es als PDF-Datei.

oder
oder

Bitte prüfen Sie, ob die Zitation formal korrekt ist, bevor Sie sie in einer Arbeit verwenden. Benutzen Sie gegebenenfalls den "Exportieren"-Dialog, wenn Sie ein Literaturverwaltungsprogramm verwenden und die Zitat-Angaben selbst formatieren wollen.

xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -