Nickel thin film preparation and its characterization as catalyst for HWC-in plasma-PECVD-growth graphene

Yusuf, Momang A. ; Abidin, Kurniati ; et al.

In: Materials Today: Proceedings, Jg. 44 (2021), Heft Part 3, S. 3420-3425

academicJournal

Titel:	Nickel thin film preparation and its characterization as catalyst for HWC-in plasma-PECVD-growth graphene
Autor/in / Beteiligte Person:	Yusuf, Momang A. ; Abidin, Kurniati ; Eliyana, Ajeng ; Malago, Jasruddin D. ; Noor, Fatimah A. ; Winata, Toto
Zeitschrift:	Materials Today: Proceedings, Jg. 44 (2021), Heft Part 3, S. 3420-3425
Veröffentlichung:	2021
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	2214-7853 (electronic)
DOI:	10.1016/j.matpr.2021.01.381
Sonstiges:	Nachgewiesen in: ScienceDirect Sprachen: English

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