Biased Double Arc Plasma CVD법에 의해 제조된 TiC 피복층의 온도와 압력이 미치는 영향에 관한 연구 : A Study on the influence of Temperature and Pressure on TiC Film Deposited by Biased Double Arc Plasma CVD

양영호 ; Yang, Yeong-Ho

In: 한국기계기술학회지, Jg. 5 (2003-06-30), Heft 1, S. 125-130

academicJournal

Titel:	Biased Double Arc Plasma CVD법에 의해 제조된 TiC 피복층의 온도와 압력이 미치는 영향에 관한 연구 : A Study on the influence of Temperature and Pressure on TiC Film Deposited by Biased Double Arc Plasma CVD
Autor/in / Beteiligte Person:	양영호 ; Yang, Yeong-Ho
Link:	https://www.earticle.net/Article/A20318
Zeitschrift:	한국기계기술학회지, Jg. 5 (2003-06-30), Heft 1, S. 125-130
Veröffentlichung:	2003
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	1229-604X (print)
Sonstiges:	Nachgewiesen in: eArticle Sprachen: 한국어(KOR) File Description: PDF

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