Precursor chemistry of advanced materials: CVD, ALD and nanoparticles

Fischer, Roland A.

Berlin : Springer, 2005

Buch - xv, 213 p. : ill. ; 25 cm.

Titel:	Precursor chemistry of advanced materials: CVD, ALD and nanoparticles
Autor/in / Beteiligte Person:	Fischer, Roland A.
Reihe:	Topics in organometallic chemistry Topics in organometallic chemistry
Veröffentlichung:	Berlin : Springer, 2005
Medientyp:	Buch
Umfang:	xv, 213 p. : ill. ; 25 cm.
ISBN:	978-3-540-01605-2 (print) ; 3-540-01605-8 (print)
Schlagwort:	Organometallic chemistry. Materials science. Chemical vapor deposition.
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Harvard Library Bibliographic Dataset Sprachen: English Contents Note: Gas-phase thermochemistry and mechanism of organometallic tin oxide CVD precursors / M.D. Allendorf [and others] -- Materials chemistry of group 13 nitrides / A. Devi [and others] -- Single-source-precursor CVD: Alkoxy and siloxy aluminum hydrides / M. Veith -- CVD deposition of binary AlSb and GaSb material films -- a single-source approach / S. Schulz -- Organometallic precursors for atomic layer deposition / M. Putkonen [and others] -- Surface reactivity of transition metal CVD precursors: Towards the control of the nucleation step / P. Serp [and others] -- Organometallic and metallo-organic precursors for nanoparticles / M.A. Malik [and others]. Document Type: Book Language: English Rights: This record is part of the Harvard Library Bibliographic Dataset, which is provided by the Harvard Library under its Bibliographic Dataset Use Terms and includes data made available by, among others, OCLC Online Computer Library Center, Inc. and the Library of Congress. Notes: Includes bibliographical references and index.

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