Chemical vapour deposition: precursors, processes and applications : Chemical vapor deposition

Jones, Anthony C. ; Hitchman, Michael L.

Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry, c2009., 2009

Buch - xv, 582 p. : ill. ; 26 cm.

Titel:	Chemical vapour deposition: precursors, processes and applications : Chemical vapor deposition
Autor/in / Beteiligte Person:	Jones, Anthony C. ; Hitchman, Michael L.
Veröffentlichung:	Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry, c2009., 2009
Medientyp:	Buch
Umfang:	xv, 582 p. : ill. ; 26 cm.
ISBN:	978-0-85404-465-8 (print) ; 0-85404-465-5 (print)
Schlagwort:	Chemical vapor deposition.
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Harvard Library Bibliographic Dataset Sprachen: English Contents Note: Overview of chemical vapour deposition / Anthony C. Jones and Michael L. Hitchman -- CVD reactors and delivery system technology / Susan P. Krumdieck -- Modeling CVD processes / Mark D. Allendorf [and others] -- Atomic layer deposition . Mikko Ritala and Jaakko Niinisto -- Basic chemistry of CVD and ALD precursors / Mohammad Azad Malik and Paul O'Brien -- CVD of III-V compound semiconductors / Jae-Hyun Ryou, Ravi Kanjolia and Russell D. Dupuis -- Chemical vapor deposition of metals: W, Al, Cu and Ru / Bing Luo and Wayne L. Gladfelter -- Chemical vapour deposition of metal oxides for microelectronics applications / Anthony C. Jones, Helen C. Aspinall and Paul R. Chalker -- Metal-organic chemical vapour deposition of refractory transition metal nitrides / Roland A. Fischer and Harish Parala -- CVD of functional coatings on glass / Ivan P. Parkin and Robert G. Palgrave -- Photo-assisted CVD / Stuart J.C. Irvine and Dan Lamb -- Plasma enhanced chemical vapour deposition processes / Segei E. Alexander and Michael L. Hitchman -- Commercial aspects of CVD / Albert Barry Leese and Alan Rodney Mills. Document Type: Book Language: English Rights: This record is part of the Harvard Library Bibliographic Dataset, which is provided by the Harvard Library under its Bibliographic Dataset Use Terms and includes data made available by, among others, OCLC Online Computer Library Center, Inc. and the Library of Congress. Notes: Includes bibliographical references and index.

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