Challenges and Performance Limitations of High-k and Oxynitride Dielectrics Materials for Low Power CMOS Applications

譚湘瑜(Tan, S. Y.) ; 劉宗慶(Liu, T. C.)

In: 華岡工程學報 / Chinese Culture University Hwa Kang Journal of Engineering, Jg. 19 (2005-06-01), S. 135-140

academicJournal

Titel:	Challenges and Performance Limitations of High-k and Oxynitride Dielectrics Materials for Low Power CMOS Applications
Autor/in / Beteiligte Person:	譚湘瑜(Tan, S. Y.) ; 劉宗慶(Liu, T. C.)
Link:	http://www.hyread.com.tw/hypage.cgi?HYPAGE=search/search_detail_new.hpg&dtd_id=3&sysid=00118411
Zeitschrift:	華岡工程學報 / Chinese Culture University Hwa Kang Journal of Engineering, Jg. 19 (2005-06-01), S. 135-140
Veröffentlichung:	2005
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	2077-009X (print)
Sonstiges:	Nachgewiesen in: HyRead Journal Sprachen: Chinese, English, Japanese Alternate Title: High-k and SiON材料為閘極絕緣體應用在低阻電源CMOS元件的瓶頸與限制 Other Title: 原題名 : 華岡工科學報

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