A Numerical Study on the Evenness of Gas Flow Field in a Vacuum Chamber for Microwave ECR PE-CVD Process on Large Sized Substrates

Sun), 孫明宗(Ming-Tsung ; Wu), 吳振培(Chen-Pei

In: Journal of the Chinese Society of Mechanical Engineers / 中國機械工程學刊, Jg. 31:5 (2010-10-01), S. 435-442

academicJournal

Titel:	A Numerical Study on the Evenness of Gas Flow Field in a Vacuum Chamber for Microwave ECR PE-CVD Process on Large Sized Substrates
Autor/in / Beteiligte Person:	Sun), 孫明宗(Ming-Tsung ; Wu), 吳振培(Chen-Pei
Link:	http://www.hyread.com.tw/hypage.cgi?HYPAGE=search/search_detail_new.hpg&dtd_id=3&sysid=00448090
Zeitschrift:	Journal of the Chinese Society of Mechanical Engineers / 中國機械工程學刊, Jg. 31:5 (2010-10-01), S. 435-442
Veröffentlichung:	2010
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	0257-9731 (print)
Sonstiges:	Nachgewiesen in: HyRead Journal Sprachen: English Alternate Title: 對以微波電子迴旋共振電漿增強化學氣相沈積法在大面積基材鍍膜之真空腔室內氣體均勻流場之數值研究

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