表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と構造および電気特性評価

勇馬, 神村 ; 貴志, 松浦 ; et al.

In: 電気学会研究会資料. ED = The papers of technical meeting on electrical discharges, IEE Japan / 放電研究会 [編], Jg. 2018 (2018-10-26), Heft 114-121, S. 5-8

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Titel:	表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と構造および電気特性評価
Autor/in / Beteiligte Person:	勇馬, 神村 ; 貴志, 松浦 ; 雅敬, 鳥越 ; 君元, 堤井 ; 精一郎, 松本
Link:	View Record from Japanese Periodicals Index
Zeitschrift:	電気学会研究会資料. ED = The papers of technical meeting on electrical discharges, IEE Japan / 放電研究会 [編], Jg. 2018 (2018-10-26), Heft 114-121, S. 5-8
Reihe:	放電プラズマ・パルスパワー合同研究会環境浄化技術・一般
Veröffentlichung:	2018
Medientyp:	academicJournal
Schlagwort:	マイクロ波プラズマ窒化ホウ素イオン衝撃誘電体パワー半導体 microwave plasma boron nitride ion bombardment dielectric power semiconductor Subjects: マイクロ波プラズマ; 窒化ホウ素; イオン衝撃; 誘電体; パワー半導体; microwave plasma; boron nitride; ion bombardment; dielectric; power semiconductor
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Japanese Periodical Index - 雑誌記事索引 Sprachen: Japanese

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