表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と絶縁性評価

亮太, 泥谷 ; 隆太, 伊藤 ; et al.

In: 電気学会研究会資料. HV = The papers of technical meeting on high voltage engineering, IEE Japan / 高電圧研究会 [編], Jg. 2021 (2021-01-22), Heft 1-18, S. 89-92

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Titel:	表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と絶縁性評価
Autor/in / Beteiligte Person:	亮太, 泥谷 ; 隆太, 伊藤 ; 世翔, 山本 ; 勇馬, 神村 ; 君元, 堤井 ; 精一郎, 松本
Link:	View Record from Japanese Periodicals Index
Zeitschrift:	電気学会研究会資料. HV = The papers of technical meeting on high voltage engineering, IEE Japan / 高電圧研究会 [編], Jg. 2021 (2021-01-22), Heft 1-18, S. 89-92
Reihe:	誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧/誘電・絶縁材料
Veröffentlichung:	2021
Medientyp:	academicJournal
Schlagwort:	プラズマCVD 窒化ホウ素薄膜誘電体電気特性 plasma CVD boron nitride thin film dielectric electrical property Subjects: プラズマCVD; 窒化ホウ素; 薄膜; 誘電体; 電気特性; plasma CVD; boron nitride; thin film; dielectric; electrical property
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Japanese Periodical Index - 雑誌記事索引 Sprachen: Japanese

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