mist-CVD法によるカーボンナノチューブフォレストへの均質シリカ誘電膜形成

和生, 西田 ; 貴之, 中野 ; et al.

In: 電気学会研究会資料. EPP = The papers of technical meeting, IEE Japan / [放電・プラズマ・パルスパワー研究会] [編], Jg. 2024 (2024-01-19), Heft 1-12, S. 19-21

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Titel:	mist-CVD法によるカーボンナノチューブフォレストへの均質シリカ誘電膜形成
Autor/in / Beteiligte Person:	和生, 西田 ; 貴之, 中野 ; 翼, 井上
Link:	View Record from Japanese Periodicals Index
Zeitschrift:	電気学会研究会資料. EPP = The papers of technical meeting, IEE Japan / [放電・プラズマ・パルスパワー研究会] [編], Jg. 2024 (2024-01-19), Heft 1-12, S. 19-21
Reihe:	誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会・放電・プラズマ・パルスパワー,高電圧,誘電・絶縁材料
Veröffentlichung:	2024
Medientyp:	academicJournal
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Japanese Periodical Index - 雑誌記事索引 Sprachen: Japanese

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