Preparation and Characterization of TiO2 Thin Films on Silica Gel Powders by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition in a Circulating Fluidized Bed Reactor

Gook Hee Kim ; Sang Done Kim ; et al.

In: JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN, Jg. 41 (2008-07-20), Heft 7, S. 700

academicJournal

Titel:	Preparation and Characterization of TiO2 Thin Films on Silica Gel Powders by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition in a Circulating Fluidized Bed Reactor
Autor/in / Beteiligte Person:	Gook Hee Kim ; Sang Done Kim ; Soung Hee Park
Zeitschrift:	JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN, Jg. 41 (2008-07-20), Heft 7, S. 700
Veröffentlichung:	2008
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	0021-9592 (print)
DOI:	10.1252/jcej.07WE109
Sonstiges:	Nachgewiesen in: J-STAGE Sprachen: English

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