Mist chemical vapor deposition of flexible and epitaxial wide-bandgap oxide semiconductors on synthetic mica / ミストCVD法を用いたフレキシブルなワイドギャップ酸化物半導体のエピタキシャル成長
2020
academicJournal
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Mist chemical vapor deposition of flexible and epitaxial wide-bandgap oxide semiconductors on synthetic mica / ミストCVD法を用いたフレキシブルなワイドギャップ酸化物半導体のエピタキシャル成長
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Autor/in / Beteiligte Person: | Tahara, Daisuke ; Nishinaka, Hiroyuki ; Shimazoe, Kazuki ; Yoshimoto, Masahiro ; Arata, Yuta ; 昌広, 吉本 ; 和樹, 島添 ; 悠汰, 新田 ; 大祐, 田原 ; 浩之, 西中 |
Veröffentlichung: | 2020 |
Medientyp: | academicJournal |
ISSN: | 2436-7613 (print) |
DOI: | 10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_3557 |
Sonstiges: |
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