Study of TiN Gate SOI-CMOS process shrink by minimal fab / ミニマルファブにおけるTiNゲートSOI-CMOSプロセスシュリンクの検討
2021
academicJournal
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Study of TiN Gate SOI-CMOS process shrink by minimal fab / ミニマルファブにおけるTiNゲートSOI-CMOSプロセスシュリンクの検討
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Autor/in / Beteiligte Person: | Imura, Fumito ; Koga, Kazuhiro ; Nemoto, Kazumasa ; Kase, Masashi ; Hara, Shiro ; Noda, Shuichi ; Khumpuang, Sommawan ; Liu, Y. X. ; ソマワン, クンプアン ; 雅, 加瀬 ; 史朗, 原 ; 和博, 古賀 ; 史人, 居村 ; 永勛, 柳 ; 一正, 根本 ; 周一, 野田 |
Veröffentlichung: | 2021 |
Medientyp: | academicJournal |
ISSN: | 2436-7613 (print) |
DOI: | 10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2321 |
Sonstiges: |
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