CMOSイメージセンサ向け界面準位低減効果を有する新たな機能性シリコンウェーハの研究 / Study on new functional silicon wafers with reduction effect of interface state density for CMOS image sensors
In: 応用物理, Jg. 93 (2024), Heft 1, S. 33
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CMOSイメージセンサ向け界面準位低減効果を有する新たな機能性シリコンウェーハの研究 / Study on new functional silicon wafers with reduction effect of interface state density for CMOS image sensors
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Autor/in / Beteiligte Person: | Ryosuke, OKUYAMA ; 亮輔, 奥山 |
Zeitschrift: | 応用物理, Jg. 93 (2024), Heft 1, S. 33 |
Veröffentlichung: | 2024 |
Medientyp: | academicJournal |
ISSN: | 0369-8009 (print) ; 2188-2290 (print) |
DOI: | 10.11470/oubutsu.93.1_33 |
Sonstiges: |
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