Changes in the structural and electrical properties of vacuum post-annealed tungsten- and titanium-doped indium oxide films deposited by radio frequency magnetron sputtering

Yan, L.T. ; Schropp, R.E.I. ; et al.

In: Thin Solid Films, Jg. 520 (2011), S. 2096

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Titel:	Changes in the structural and electrical properties of vacuum post-annealed tungsten- and titanium-doped indium oxide films deposited by radio frequency magnetron sputtering
Autor/in / Beteiligte Person:	Yan, L.T. ; Schropp, R.E.I. ; Nanophotonics ; Physics research: Debye Institute for Nanomaterials Science ; Sub Physics of devices begr 1/1/17
Link:	E-Journal im Bestand der UB Hagen? https://dspace.library.uu.nl/handle/1874/231577 Volltext
Zeitschrift:	Thin Solid Films, Jg. 520 (2011), S. 2096
Veröffentlichung:	2011
Medientyp:	serialPeriodical
ISSN:	0040-6090 (print)
DOI:	10.1016/j.tsf.2011.08.060
Sonstiges:	Nachgewiesen in: NARCIS Sprachen: English File Description: application/pdf

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