Crescimento de diamante CVD em substratos de silício de grande área

Moro, João Roberto ; Trava-Airoldi, Vladimir Jesus ; et al.

In: Rem: Revista Escola de Minas, Jg. 63 (2010-06-01), Heft 2

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Realizaram-se crescimentos de filmes de diamante por deposição química de vapor (CVD, do inglês Chemical Vapor Deposition) em substratos de silício (100), de grande área (80 cm²), em um reator de filamento quente (HFCVD), com taxas de crescimento superiores a 1,5 µm/h. Foi realizado o crescimento das amostras com diferentes fluxos gasosos e diferentes porcentagens de metano (CH4) em hidrogênio (H2). As amostras foram caracterizadas por microscopia óptica, eletrônica de varredura e por espectroscopia de espalhamento Raman. Tais análises acusaram a presença de diamante de alta pureza em todas as amostras.

Titel:	Crescimento de diamante CVD em substratos de silício de grande área
Autor/in / Beteiligte Person:	Moro, João Roberto ; Trava-Airoldi, Vladimir Jesus ; Corat, Evaldo José ; Eichenberger Neto, João ; Amorim, Amaurí ; Alves, Arnaldo Ribeiro
Link:	Volltext (PDF) View record in SciELO (Volltext)
Zeitschrift:	Rem: Revista Escola de Minas, Jg. 63 (2010-06-01), Heft 2
Veröffentlichung:	Escola de Minas, 2010
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	0370-4467 (print)
DOI:	10.1590/S0370-44672010000200011
Schlagwort:	Diamante CVD crescimento grandes áreas
Sonstiges:	Nachgewiesen in: SciELO Sprachen: Portuguese Document Type: article File Description: text/html Language: Portuguese Rights: info:eu-repo/semantics/openAccess

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