Bias Effect on Deposition Behaviour of Charged Nanoparticles

Hwang, Nong Moon ; Ertl, Gerhard, Series editor ; et al.

In: Non-Classical Crystallization of Thin Films and Nanostructures in CVD and PVD Processes, Jg. 60 (2016), S. 261-289

Online E-Book

Titel:	Bias Effect on Deposition Behaviour of Charged Nanoparticles
Autor/in / Beteiligte Person:	Hwang, Nong Moon ; Ertl, Gerhard, Series editor ; Lüth, Hans, Series editor ; Car, Roberto, Series editor ; Rocca, Mario Agostino, Series editor ; FREUND, HANS-JOACHIM, Series editor
Zeitschrift:	Non-Classical Crystallization of Thin Films and Nanostructures in CVD and PVD Processes, Jg. 60 (2016), S. 261-289
Veröffentlichung:	2016
Medientyp:	E-Book
ISBN:	978-94-017-7614-1 (print) ; 978-94-017-7616-5 (print)
DOI:	10.1007/978-94-017-7616-5_12
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Springer Nature eBooks

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