Optical–thermal simulation applied to the study of the pattern effects induced by the sub-melt laser anneal process in advanced CMOS technologies

Colin, A. ; Morin, P. ; et al.

In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 104 (2011-08-01), Heft 2, S. 517-527

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Titel:	Optical–thermal simulation applied to the study of the pattern effects induced by the sub-melt laser anneal process in advanced CMOS technologies
Autor/in / Beteiligte Person:	Colin, A. ; Morin, P. ; Cacho, F. ; Bono, H. ; Beneyton, R. ; Mathiot, D. ; Fogarassy, E.
Link:	Volltext (PDF) View record at Springer (Volltext)
Zeitschrift:	Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 104 (2011-08-01), Heft 2, S. 517-527
Veröffentlichung:	2011
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	0947-8396 (print) ; 1432-0630 (print)
DOI:	10.1007/s00339-011-6467-0
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Springer Nature Journals Sprachen: English

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