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    Optical, laser microlithography, 3. 7 - 9 March 1990, San Jose, California
    SPIE, the International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash.: SPIE, 1990
    Konferenzschrift, Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Electron beam, x-ray, and ion beam submicrometer lithographies for manufacturing, 9. 7 - 8 March 1990, San Jose, California
    SPIE, The International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash., 1990
    Konferenzschrift, Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Optical microlithography, 2. Technology for the 1980s ; March 16 - 17, 1983, Santa Clara, Calif
    Conference on Optical Microlithography Technology. International Society for Optical Engineering. International Society for Hybrid Microelectronics
    Bellingham, Wash., 1983
    Aufsatzsammlung, Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Optical microlithography, 4. March 13 - 14, 1985, Santa Clara, Calif
    Conference on Optical Microlithography Technology. International Society for Optical Engineering. International Society for Hybrid Microelectronics
    Bellingham, Wash., 1985
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Optical microlithography, 3. Technology for the next decade ; March 14 - 15, 1984, Santa Clara, Calif
    Conference on Optical Microlithography Technology. International Society for Optical Engineering. International Society for Hybrid Microelectronics
    Bellingham, Wash., 1984
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Electron beam, x-ray, and ion beam submicrometer lithographies for manufacturing, 7. 2 - 4 March 1988, Santa Clara, California
    SPIE, The International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash., 1988
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Electron beam, x-ray, and ion beam submicrometer lithographies for manufacturing, 8. 1 - 3 March 1989, San Jose, California
    SPIE, The International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash., 1989
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Optical, laser microlithography, [1]. 2 - 4 March 1988, Santa Clara, Calif
    SPIE, the International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash.: SPIE, 1988
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Optical, laser microlithography, 2. 1 - 3 March 1989. San Jose, California
    SPIE, the International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash.: SPIE, 1989
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Electron beam, x-ray, and ion beam submicrometer lithographies for manufacturing, 4. March 14 - 15, 1985, Santa Clara, Calif
    SPIE, The International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash., 1985
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Optical microlithography, 5. 13 - 14 March 1986, Santa Clara, Calif
    Conference on Optical Microlithography Technology. International Society for Optical Engineering. International Society for Hybrid Microelectronics
    Bellingham, Wash., 1986
    Konferenzschrift, Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Electron beam, x-ray, and ion beam submicrometer lithographies for manufacturing, 3. MARCH, 15 - 16, 1984, SANTA CLARA, CALIF. / ALFRED WAGNER, CHAIRMAN
    SPIE, The International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash., 1984
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Electron beam, x-ray, and ion beam submicrometer lithographies for manufacturing, [NS1]. 6 - 7 March 1991, San Jose, California
    SPIE, The International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash., 1991
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Electron beam, x-ray, and ion beam submicrometer lithographies for manufacturing, 2. March 14 - 15, 1983, Santa Clara, Calif
    SPIE, The International Society for Optical Engineering
    Bellingham, Wash., 1983
    Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe

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