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  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Bedampfungstechnik: Verfahren, Einrichtungen, Anwendungen
    Siegfried Schiller ; Ullrich Heisig
    Berlin: Verl. Technik, 1975
    Monographie, Gedruckte Ressource
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    Technologie elektronischer Bauelemente: physikalisch-technische Grundlagen
    Heinz Schmellenmeier
    Berlin: Verl. Technik, 1970
    Monographie, Gedruckte Ressource
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    Crystal growth: principles and progress
    Vere, A. W.
    New York [u.a.]: Plenum Pr, 1987
    Monographie, Gedruckte Ressource
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Chemical mechanical planarization of microelectronic materials
    Joseph M. Steigerwald ; Shyam P. Murarka ; Ronald J. Gutmann
    New York [u.a.]: J. Wiley, 1997
    Monographie, Gedruckte Ressource
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Etching of III-V semiconductors: an electrochemical approach
    P. H. L. Notten ; J. E. A. M. van den Meerakker ; J. J. Kelly
    Oxford: Elsevier Advanced Technology, 1991
    Monographie, Gedruckte Ressource
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Thin films by chemical vapour deposition
    C. E. Morosanu
    Amsterdam [u.a.]: Elsevier, 1990
    Monographie, Gedruckte Ressource
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Technologische Grundprozesse der Vakuumelektronik
    Helmut Katz
    Berlin [u.a.]: Springer, 1974
    Monographie, Gedruckte Ressource
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Über das Wachstum von InP im plasmaunterstützten MBE-Prozeß
    Reiner Schütz
    Als Ms. gedr.. - Düsseldorf: VDI-Verl, 1990
    Monographie, Hochschulschrift, Gedruckte Ressource
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Gas source molecular beam epitaxy: growth and properties of phosphorus containing III - V heterostructures
    M. B. Panish ; H. Temkin
    Berlin [u.a.]: Springer, 1993
    Monographie, Gedruckte Ressource
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Organometallic vapor phase epitaxy: theory and practice
    Gerald B. Stringfellow
    Boston [u.a.]: Acad. Press, 1989
    Monographie, Gedruckte Ressource
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Physical vapor deposition of thin films
    John E. Mahan
    New York [u.a.]: Wiley, 2000
    Monographie, Gedruckte Ressource
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Microcrystalline silicon thin films deposited by VHF plasmas for solar cell applications
    Roger Sylvain Flückiger
    1. Aufl.. - Konstanz: Hartung-Gorre, 1995
    Monographie, Hochschulschrift, Gedruckte Ressource
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Multilayer ceramic substrate technology for VLSI package/multichip module
    K. Ōtsuka
    London [u.a.]: Elsevier Applied Science, 1993
    Monographie, Gedruckte Ressource
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    The MOCVD challenge, 1. A survey of GaInAsP-InP for photonic and electronic applications
    M. Razeghi
    Bristol [u.a.]: Hilger, 1989
    Monographie, Teil eines Werkes, Gedruckte Ressource
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Chemische Dampfablagerung: CVD-Grundlagen für d. Mikroelektronik
    Arnold, Heinrich (1933-)
    Berlin: Akad.-Verl, 1982
    Monographie, Gedruckte Ressource
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    MRC'S 28. SPUTTERING AND PLASMA ETCHING SCHOOL AND CONFERENCE: JUNE 23 - 25, 1981, MONTREUX PALACE, MONTREUX, SWITZERLAND
    Sputtering and Plasma Etching School and Conference, 1981, Montreux
    RUNGIS CEDEX: MATERIALS RESEARCH, EUROPE, 1981
    Monographie, Gedruckte Ressource
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Handbook of electron tube and vacuum techniques
    Rosebury, Fred
    (NACHDR. D. AUSG.) READING/MASS., ADDISON-WESLEY, 1965. - ANN ARBOR, MICH.: UNIV. MICROFILMS INTERNAT, 1984
    Monographie, Gedruckte Ressource
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Cold plasma in materials fabrication: from fundamentals to applications
    Alfred Grill
    Piscataway, NJ: IEEE Press, 1994
    Monographie, Gedruckte Ressource
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Proceedings of the Joint IERE IEE Conference on Applications of Thin Films in Electronic Engineering: Imperial College of Science and Technology South Kensington, London, Monday 11. July to Thursday 14. July 1966
    organized by the Institution of Electronic and Radio Engineers ..
    London, 1966
    Monographie, Konferenzschrift, Gedruckte Ressource
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Ionenstrahlinduzierte Wachstumsprozesse amorpher Schichten in Silicium
    von Thomas Henkel
    Rossendorf: Forschungszentrum Rossendorf e.V., FZR, 1997
    Monographie, Hochschulschrift, Sonstiges, Gedruckte Ressource

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