Glow discharge processes: sputtering and plasma etching
New York [u.a.]: Wiley, 1980
Monographie, Gedruckte Ressource
- XV, 406 S. : Ill., graph. Darst.
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Titel: |
Glow discharge processes: sputtering and plasma etching
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Verantwortlichkeitsangabe: | Brian Chapman |
Autor/in / Beteiligte Person: | Chapman, Brian |
Veröffentlichung: | New York [u.a.]: Wiley, 1980 |
Medientyp: | Monographie |
Datenträgertyp: | Gedruckte Ressource |
Umfang: | XV, 406 S. : Ill., graph. Darst. |
ISBN: | 047107828X |
Schlagwort: |
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Sonstiges: |
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