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Optical, laser microlithography, 3. 7 - 9 March 1990, San Jose, California

SPIE, the International Society for Optical Engineering
Bellingham, Wash.: SPIE, 1990
Konferenzschrift, Monographie, Teil eines Werkes, keine Angabe - X, 586 S. : Ill., graph. Darst.

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Titel:
Optical, laser microlithography, 3. 7 - 9 March 1990, San Jose, California
Verantwortlichkeitsangabe: SPIE, the International Society for Optical Engineering
Körperschaft: SPIE, The International Society for Optical Engineering
Verwandtes Werk:
Veröffentlichung: Bellingham, Wash.: SPIE, 1990
Medientyp: Konferenzschrift, Monographie, Teil eines Werkes
Datenträgertyp: keine Angabe
Umfang: X, 586 S. : Ill., graph. Darst.
ISBN: 0819403113
Schlagwort:
  • Lithografie (Halbleitertechnologie)
  • Fotolithografie (Halbleitertechnologie)
Sonstiges:
  • Gesamttitelangabe: Proceedings / SPIE, the International Society for Optical Engineering ; 1264
  • Konferenzschrift: San Jose, Calif., 1990
  • Lokale Notationen: YET
  • Fächer: Elektrotechnik
  • hbz Verbund-ID: HT005029596

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