Fundamental aspects of silicon oxidation
Berlin [u.a.]: Springer, 2001
Sammelwerk, Gedruckte Ressource
- XIII, 260 S. : Ill., graph. Darst.
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Titel: |
Fundamental aspects of silicon oxidation
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Verantwortlichkeitsangabe: | Yves J. Chabal (ed.) |
Autor/in / Beteiligte Person: | Chabal, Yves J. |
Link: | |
Verwandtes Werk: | |
Veröffentlichung: | Berlin [u.a.]: Springer, 2001 |
Medientyp: | Sammelwerk |
Datenträgertyp: | Gedruckte Ressource |
Umfang: | XIII, 260 S. : Ill., graph. Darst. |
ISBN: | 354041682X Gb. : ca. DM 129.00 |
Schlagwort: |
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Sonstiges: |
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